摘要:
对单晶硅电火花铣削过程中电极表面出现的覆盖层进行了分析,分析结果表明,该覆盖层的主要成分是SiO2。实验证明,SiO2是加工过程中电化学反应的产物。研究了电参数对SiO2覆盖层厚度的影响规律。研究结果表明,可以通过控制SiO2覆盖层的厚度来保护电极和补偿电极损耗,实现低损耗甚至无损耗的单晶硅电火花铣削加工。
中图分类号:
刘志东, 鲁, 清, 邱明波, 田宗军, 黄因慧.
单晶硅电火花铣削电极表面覆盖效应研究
[J]. 中国机械工程, 2012, 23(2): 208-211.
LIU Zhi-Dong, LU,QING,QIU Meng-Bei, TIAN Zong-Jun, HUANG Yin-Hui.
Study on Electrode Covering Effect on Monocrystalline Silicon in Electrical Discharge
Milling
[J]. China Mechanical Engineering, 2012, 23(2): 208-211.